Samsung sudah memiliki proses pembuatan siap pada 8 nm

Samsung adalah salah satu pemimpin dunia dalam pembuatan chip silikon dan tidak berniat menyerah, raksasa Korea Selatan ini sudah siap dengan proses manufaktur baru yang lebih halus untuk meningkatkan kinerja chip-nya dan pihak-pihak ketiga yang menggunakan pengecorannya.

Samsung sudah memiliki 8 nm siap

Samsung telah secara resmi mengungkapkan bahwa proses manufaktur 8nm LPP (Low Power Plus) baru siap untuk produksi chip pertama, proses baru ini menawarkan peningkatan kinerja hingga 10% dibandingkan proses 10nm perusahaan saat ini dan hingga 10% pengurangan area transistor.

Node ini merupakan penyempurnaan dari node produksi 10nm Samsung yang ada, yang membuat proses ini benar-benar 10nm +, tetapi perubahan nama diterapkan untuk pemasaran, seperti yang kita ingat bahwa tidak ada standar ketika datang ke Ukur ukuran transistor sehingga setiap pengecoran dapat mengekspresikannya secara berbeda. Ini berarti bahwa proses pembuatan dua perusahaan dapat sangat berbeda walaupun nm tampaknya sama.

CEO NVIDIA mengatakan Hukum Moore sudah mati dan GPU akan menggantikan CPU

Keuntungan dari simpul proses baru ini adalah kenyataan bahwa ia dibangun di atas teknologi Samsung yang ada, memungkinkan Samsung untuk mempercepat produksi 8nm dengan mengadaptasi teknologi 10nm yang ada. Samsung juga telah mampu melewati kualifikasi dengan simpul baru ini tiga bulan lebih cepat dari jadwal, memungkinkan perusahaan untuk memproduksi chip fungsional 8nm lebih cepat dari jadwal.

8nm akan menjadi simpul terakhir Samsung sebelum pindah ke EUV (Extreme Ultra Violet) dengan simpul pabrikan 7nm, yang mengantarkan era baru bagi Hukum Moore, yang memungkinkan produsen untuk memecahkan beberapa batasan yang telah ada. menggagalkan kemajuan dalam industri ini.

7LPP akan menjadi teknologi proses semikonduktor pertama yang menggunakan solusi litografi EUV. Upaya kolaboratif Samsung dan ASML mengembangkan 250W daya EUV maksimum, yang merupakan tonggak paling penting untuk penyisipan EUV dalam produksi volume tinggi. Penempatan litografi EUV akan memecahkan hambatan skala hukum Moore, membuka jalan bagi generasi teknologi semikonduktor nanometer tunggal.

Fon Overclock3d